《超硬材料薄膜的制备、性能与应用》由概论、性能及其影响因素、制备技术的多样性、工程与功能应用、纳米金刚石薄膜、类金刚石涂层、金刚石薄膜的特性表征与测试技术、理论模型与机制研究、立方氮化硼薄膜和总结与展望十个部分所构成。比如：金刚石薄膜的性能有金刚石薄膜的力学性能、金刚石薄膜的电学性能、金刚石薄膜的热学性能、金刚石薄膜的光学性能，影响金刚石薄膜的因素有掺硼对金刚石薄膜的影响、沉积气压对类金刚石膜的影响、ECR等离子体刻蚀CVD对薄膜形貌的影响、氩气流量对等离子体喷射法制备的金刚石膜形核的影响等。本

金刚石作为第四代半导体材料，具有极其优越的物理化学特性，在诸多高科技领域具有很好的应用前景。金刚石抛光技术的研究不但突破了金刚石在高科技领域的应用瓶颈，还带动了一些新工艺、新方法和新技术的发展。本书以作者多年的科研成果为基础，汇集国内外金刚石领域的**进展，全面系统地对金刚石应用和抛光技术的重要成果进行了归纳和总结，内容主要包括：金刚石的结构及性能，金刚石膜的应用，金刚石膜的制备技术，金刚石膜的去除机理与抛光理论，金刚石膜的机械抛光技术、摩擦化学抛光技术、化学机械抛光技术、光催化辅助抛光技术及特

现代半导体技术和先进材料研发的进步，促进薄膜材料和制备技术快速发展，要求薄膜制备技术和薄膜结构有精细控制，需要了解表面与薄膜方面的基本物理知识。本书着重介绍表面与薄膜相关的基本概念、基本原理，帮助理解掌握薄膜技术的基本知识，为工作和科研打下良好基础。本书内容包括真空物理基础、表面科学基础、薄膜物理基础、薄膜生长技术、薄膜结构、表面和薄膜分析技术，以及几种常见的薄膜材料。