本书从荧光分析的原理入手，对荧光与分子结构的关系、荧光分析的环境影响因素进行了分析论述；对原子荧光光谱分析原理及其应用、X射线荧光光谱分析法及其应用做了一定的研究；还对同步荧光分析法及其应用、低温荧光分析法及其应用、动力学荧光分析法及其应用和三维荧光光谱分析法及其应用做了探讨。

"本书着眼于电介质材料的基础理论和电介质材料的前沿问题，深入浅出地介绍了电介质材料的基础知识，并对一些新型电介质材料进行了系统介绍，主要内容包括：电介质材料的电极化、电导和驰豫及损耗等基本理论，结合科研实际情况着重介绍了几种先进电介质材料的结构和介电性能及电磁响应特性。 本书可供高等院校高年级本科生、研究生和教师参考，也可供物理、化学、材料、生物、能源、电子和信息等领域的相关研究者和工程技术人员参考使用。"

本书通过对光学基本原理的分析，介绍了生物发光——荧光的产生和发射原理，并对该原理进行了阐述。在介绍光的折射、散射、反射、吸收、发射等物理现象的基础上，讲解了当荧光素酶在氧与荧光素结合时发生电子转移，同时发生能量的变化，以特定波长释放出荧光光子而发光的生物发光现象，对光化学作用荧光基础理论和有机荧光探针进行了总体论述，对罗丹明类荧光探针、荧光素类荧光探针、芘类荧光探针、BODIPY类荧光探针、香豆素类荧光探针等进行了深入探讨。

本书从原理和应用方面详细介绍了等离激元光催化，深度分析表面等离激元、等离激元光热效应及其催化等基本原理，详细介绍了等离激元光催化实验测量和分析方法，以及在分子化学反应、水分解和相变，以及微纳材料生长方面的应用。

借助STM这个可以提供原子尺度结构和电子态的有力工具，《硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究》对Sr／Si体系进行了深入的研究，主要分为以下3个部分：（1）第一部分：Si（100）衬底上的Sr／Si再构；（2）第二部分：Si（111）衬底上的Sr／Si再构；（3）第三部分：超薄SrTiO3膜的高温晶化。

本书在介绍固体缺陷及线弹性断裂力学理论、扫描电子显微镜原理及结构、几何相位分析方法等的基础上，将原位扫描电子显微镜实验与几何相位分析方法相结合，深入分析了5A05铝合金、多晶钼及单晶硅中微裂纹的萌生及扩展过程，研究了裂纹尖端的微米尺度及亚微米尺度应变场。

本书着重介绍同步辐射软X射线光束线及其应用，全书共8章。第1章是同步辐射光源概述。第2章在理论上系统阐述了同步辐射光的性能特点及3种光源的辐射特性。第3章从X射线与物质相互作用的角度，分析了软X射线波段的光学特性。第4章是同步辐射光束线设计的理论基础，包括光束线结构、主要光学系统及特点等。第58章是作者自身的研究经历和成果总结，主要涉及三大部分内容。一是系统介绍了建造中能X射线光束线的全过程，包括理论设计、安装调试、性能诊断、束流位置监测系统的研制、真空保护系统的修正、KTP分光晶体的性能研究。

本书是新一版的固体物理学教材，作者力图从原创的科学家的思想出发，介绍固体物理学中主要的概念、实验和理论，其中包括了固体物理学史、化学键与晶体组成、固体结构、晶体振动和固体热性质、固体电子理论、固体的电性质（输运过程）、固体的磁性、固体的介电性质和光学性质等内容。本书适合涉及电子、器件与材料专业的本科生或研究生学习。